第767章 科学家们的呐喊：前沿不当人了是吧？（3/4）

不过硬要说的话，其实包含娲、白泽在内的全部实验室里进展最快的是胜遇。

只不过是表面以下的胜遇。

而且胜遇走了一条比较‘脏’的道路，因为胜遇的基础技术积累其实是前沿学术等最重视的部分；

有国内外的各类技术授权积累。

实验室成员7成以上是博士，国内国外毕业的都有。

就说一个事，胜遇已经申请了数千项通信标准专利，多数是5g方面的。

但是基本没专利费。

是占专利名额，利用专利法申请不费废止来做滚动保护。

这样既可以占优先权，又可以不公开，通过一次又一次新的申请更新优先权延长专利保护期。

算是某种基。

有意思的是，胜遇实验室的研究并不怎么花钱，除了技术储备和基础研发环境支出外，最大的支出居然是研发员的薪资……

听完汇报，脑子里也开完小差的方总想了想，道：“下午召开一次联合会议，需要有长光所等一些合作单位的参与。”

“我来协调。”行政主管连道。

“我会帮忙。”王院士跟着说道。

“……”

午后两点，长光所副所长张学君等，大部分合作的科研单位代表都来到了梼杌实验室。

方年坐在居中位置。

神态轻松自如。

令不敢忽视。

张学君也想起了两年多前的那次会面，实在没想到再见面时会是这样的光景。

方年目光扫过与会众：“各位下午好，我是方年，初次见面，请多关照。”

“方总好。”

“方总太客气了。”

“……”

简单的寒暄过后，方年直截了当道：“恕我冒昧，为了不耽误大家更多的时间，我就开门见山了。”

“庐州前沿正在建设一条12寸晶圆测试线，为了配合这条测试线，梼杌这边将全面进军euv光刻研究，希望大家能给予必要支持。”

此话一出，众皆愣。

包括梼杌的王院士。

“euv？”张学君挑了下眉，斟酌着说道，“方总，冒昧问一句，你好像对极紫外有独钟？”

“理论上只有最尖端光刻需要用到极紫外光刻，duv(紫外)借住浸式方案理论上可以做到7nm光刻，似乎没必要全面进军euv？”

“……”

在座众都是懂行士，纷纷发表了各自的看法。

比如duv技术积累等等问题。

毕竟梼杌实验室名字里的‘半导体设备’五个字有85%是针对：

集成电路前道制造光刻机。

光刻机其实是个泛称，内里可细分为前道制造、后道封装、应用于tft(薄膜晶体管)的光刻、应用于中小基底先进光刻等的光刻机。

一般大众认知范围内的光刻机是集成电路前道制造光刻机……

听着大家的不同意见，方年微微一笑：“duv不是有各位在努力吗？”

“前沿不能白叫前沿这个名字，而且euv这个领域基本上属于赢家通吃，很符合前沿的目标。”

王院士立马道：“可是asml的euv实验机去年就运到了台积电使用。”

“……”

“这个领域需要很庞大的投。”

“……”

方年当然知道。

他更清楚的是，全球范围内euv光刻机的差距其实不太大。

要么就是没想过，要么就是放弃了。

唯一一家至死不渝坚持到底的是asml。

有意思的是，最终水准其实取决于砸钱程度以及对技术整合的程度。

当然，asml快得很，06年开始投，去年推出了首台euv工程原型机，而且还有台积电这个大客户在使用、验证、反馈。

但……

asml很缺钱，方年曾看过的所有与asml有关的媒体报道都提到了asml在2012年7月份发起的客户联合投资计划。

这份计划募集了超过50亿欧元的资金，其中一半用于euv光刻研发。

且因为始终未实现euv光刻机的大规模量产，以至于参与这份计划的三星、台积电、英特尔先后减持了份。

钱这东西，前沿也缺。

但前沿在某种意义上可以不缺钱……

等众讨论完，方年淡然道：“前沿计划今年内首批投10亿美元，包括但不限于面向全球收购相关企业、专利授权、研发投；

明年起的三年内前沿一家的年平均纯研发投不低于50亿民币，后续视况递增。”

会议室